ASML вводит на рынок новую машину High NA EUV за $350 млн

Гигант по производству чип-инструментов ASML объявил о запуске своей последней разработки - машины High NA EUV стоимостью 350 миллионов долларов, представляющей собой новейшую фотолитографическую технологию в крайнем ультрафиолете (EUV). 

Это устройство, размером с двухэтажный автобус, оснащено более крупной оптической системой, состоящей из зеркал неправильной формы, отполированных настолько гладко, что их приходится хранить в вакууме. Такая система позволяет собирать и фокусировать больше света, что, по словам представителей компании, приводит к лучшему разрешению и более высокой точности в процессе литографии.

High NA EUV является следующим поколением фотолитографии в крайнем ультрафиолете и обещает значительное улучшение процесса производства чипов. Его основное преимущество заключается в том, что он позволяет производителям микросхем уменьшить размер мельчайших элементов своих чипов до 40%, что в конечном итоге позволит утроить плотность транзисторов на чипе. 

Это открывает новые возможности для создания более мощных и энергоэффективных полупроводниковых устройств, в том числе для мобильных устройств, компьютеров и других сфер применения.

Хотя стоимость машины High NA EUV высока, ASML утверждает, что экономическая эффективность ее использования значительно превосходит затраты благодаря возможности увеличения производительности и качества производства чипов. Компания также сообщила, что уже начала поставки пилотных устройств клиентам, включая таких крупных игроков, как Intel и Samsung, что подчеркивает заинтересованность индустрии в новой технологии.